应用场景成膜、溅射、蚀刻等关键半导体制造设备,在晶圆上实现晶体管单元、多层布线网络、绝缘层等。应用效果VS600实现了高精度、高稳定性的运动控制,满足严苛工艺要求。满足功能安全和半导体设备相关认证要求。VS580控制高精度DDR马达,实现晶圆精准传送。真绝对值系统,无需外部原点和极限开关。市场认可已获国内领先半导体设备厂商采用,并在晶圆厂成功投产。
应用场景
成膜、溅射、蚀刻等关键半导体制造设备,在晶圆上实现晶体管单元、多层布线网络、绝缘层等。
应用效果
VS600实现了高精度、高稳定性的运动控制,满足严苛工艺要求。满足功能安全和半导体设备相关认证要求。VS580控制高精度DDR马达,实现晶圆精准传送。真绝对值系统,无需外部原点和极限开关。
市场认可
已获国内领先半导体设备厂商采用,并在晶圆厂成功投产。